SK-GC-2000
CO
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Washing Glove Chamber (반도체기계크리너)
- 본 제품은 CO
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고압세척장치로써 반도체 등의 정밀 생산장치의 부품세척용으로 예열실(좌측)에서
60~80℃로 부품을 예열시킨 후 세척룸(오른쪽)으로 자동 이동시켜 CO
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Gas로 고압 분사하여 부품을
세척하는 장치입니다.
- 실내 환경을 깨끗이 하고 작업자의 안전을 도모하는 장치로써 유용합니다.
- 반도체, 통신장비 세척에 유용합니다.
규격 외 품목 주문 제작 가능